编辑：丁浚航
2026年07月24日 阅读：
对当前大陆晶片产业的制程困境，中芯国际联合创始人谢志峰提出两个观点。首先，大陆逻辑晶片已达到等效7奈米、5奈米水准。深紫外曝光机（DUV）多重曝光技术能生产出同样性能的晶片，但不适合大规模量产。
本文转自：TNT时报
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